关键加工环节 前处理：包括除油、微蚀、活化，确保载板表面洁净无杂质。 电镀沉积：通过电解或化学沉积方式，让金属离子均匀附着在载板表面。 后处理：涵盖清洗、烘干、检测，保障镀层质量达标。
工艺流程 前处理：包括对载板进行开槽、打通孔等操作，然后将载板贴在承载胶上，植入芯片和金属块，进行次塑封，形成塑封层；之后拆除承载胶，对一次塑封件另一面进行第二次塑封，形成第二塑封层。 电镀准备：在塑封层和第二塑封层上打盲孔，以露出芯片的 IO 接口和金属块，然后对盲孔进行真空溅射，并在二次塑封件的上、下两面建立种子层。 电镀沉积：通过电解或化学沉积方式，让金属离子在载板表面沉积形成所需的镀层，如铜、镍、金、锡等镀层，在电镀过程中需要控制电场、电镀液成分、温度、电流密度等参数，以确保镀层的质量和性能。 后处理：电镀完成后，进行清洗、烘干等操作，去除表面残留的电镀液和杂质，然后对镀层进行检测，如检测镀层厚度、附着力、孔隙率等，确保产品质量符合要求。
通讯载板电镀加工关键技术 电镀液配方优化：为了实现高精度的电镀效果，需要针对不同的镀层和工艺要求，优化电镀液配方。例如，铜镀液中铜离子浓度、硫酸浓度以及添加剂的种类和含量等都需要控制，以保证镀层的均匀性、致密度和附着力。 添加剂控制：添加剂在通讯载板电镀中起着关键作用，通过控制抑制剂、光亮剂和整平剂等添加剂的浓度和比例，可以实现超细线路的均匀电镀，避免出现镀层桥连、空洞等缺陷。 设备与工艺参数调控：先进的电镀设备能够控制电场、电流密度、温度、时间等参数，确保电镀过程的稳定性和一致性。例如，在脉冲电镀中，通过合理设置脉冲参数，可以改善镀层的结晶结构，提高镀层的性能。
通讯载板电镀加工常见镀层类型及作用 铜镀层：是通讯载板中主要的导电层，用于线路互联，其厚度通常根据具体需求在 1-20μm 之间，要求具有高导电性、良好的附着力和抗电迁移性能，以保证信号的传输和载板的长期可靠性。 镍镀层：常作为中间阻挡层，防止铜扩散，同时提高后续镀层的结合力，厚度一般在 0.5-2μm。 金镀层：主要用于表面焊接 / 键合层，如芯片键合或引脚焊接，具有良好的导电性、抗腐蚀性和可焊性，厚度通常在 0.1-1μm，可分为硬金和软金，硬金耐磨性好，软金易键合。 锡镀层：是一种低成本的焊接层，可替代部分金镀层，用于载板的表面焊接，厚度一般在 1-3μm，要求无针孔、可焊性好。