图形电镀：通过光刻技术定义线路图形，然后对图形区域进行电镀加厚，如镀铜至 5-15μm，以形成导线主体。对于高频高速线路板，常采用脉冲电镀或周期反向电镀，以改善镀层结晶结构。
常见镀层材料及应用 金：具有良好的导电性、耐腐蚀性和耐磨性，常用于高频连接器、射频接口等关键区域，镀层厚度一般为 1-3μm。 银：电阻率低，高频损耗小，适用于普通信号焊盘和线路，镀层厚度约 0.1-0.2μm，但需注意防氧化处理。 铜：作为基础导电层，广泛应用于线路电镀，厚度通常在 5-20μm，通过优化电镀工艺，可提高其信号传输性能。
种子层沉积：构建导电基底 采用物相沉积（PVD）或化学镀，在绝缘基材表面沉积超薄导电层（铜或镍）。 种子层厚度控制在 0.1-0.5μm，要求覆盖均匀、无针孔，为后续图形电镀提供稳定导电通道。 沉积后需做简易附着力检测，避免种子层脱落影响后续工艺。
图形转移：定义线路与镀层区域 涂布高精度光刻胶 / 干膜，通过曝光、显影工艺，将线路图形转移到基材表面。 高频高速板对图形精度要求，需控制线宽 / 线距偏差≤±1μm，避免开窗偏移导致镀层错位。 显影后进行检查修正，去除残留胶渣，确保线路区域完全裸露、非线路区域被保护。